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寬能隙半導體切割瓶頸,仰賴雷射技術全切穿!
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2024 年 11 月 5 日
「 在半導體製程中,您是否遇到過傳統晶圓切割機, 在處理高硬度或脆性材料時,出現切割不均或邊緣破損的情況?& […]
MOSFET正面金屬化製程(FSM)的兩種選擇-濺鍍V.S.化鍍
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2021 年 2 月 5 日
「 為什麼需要做正面金屬化製程?為什麼不是所有晶片都要做金屬化製程?正面金屬化製程,可以用哪兩種方式來進行? […]
1.5 mil 晶圓薄化新挑戰 如何在 Taiko BGBM 製程提升晶片強度?
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2021 年 2 月 5 日
「 功率半導體的輕薄短小,是現今熱門議題與未來趨勢。但隨著晶片薄化後,接踵而來的風險是什麼 ?要如何有效地來抑 […]
MOSFET正面金屬化製程高CP值選擇-化鍍
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2021 年 2 月 5 日
「 我們知道FSM製程包括化鍍、濺鍍,你知道哪一種是成熟穩定,且可靠度極佳的製程?哪一種是CP值高,可以有較低 […]
如何不變更設計,快速降低MOSFET的導通阻抗RDS(on)
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2021 年 2 月 5 日
「 MOSFET功率半導體晶片火紅,如何有效降低RDS(on)(導通阻抗)?」 MOSFET在電子產品扮演「開 […]
